特許
J-GLOBAL ID：200903078414725699
Fe-Si-Al合金軟磁性膜及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
並川 啓志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-136732
公開番号（公開出願番号）：特開平7-320933
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【構成】Fe-Si-Al合金軟磁性膜においてDO3相の割合が50%以上であることを特徴とするFe-Si-Al合金磁性膜および、成膜後、550°C以上800°C以下で磁性膜中のDO3相の割合が50%以上となるまで熱処理を行うことを特徴とするFe-Si-Al合金膜の製造方法。【効果】透磁率が高く膜面内で透磁率が等方的である磁性膜を製造することができる。
請求項（抜粋）：
Fe-Si-Al合金軟磁性膜においてDO3相の割合が50%以上であることを特徴とするFe-Si-Al合金軟磁性膜。
IPC (3件)：
H01F 10/14
, C23C 14/14
, G11B 5/147
