特許

J-GLOBAL ID：200903078414938781

半導体ウエハの検査装置及び検査方法

発明者： 與島 政幸 ,  中村 豊一
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-376282
公開番号（公開出願番号）：特開2002-181726
出願日： 2000年12月11日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】従来のフーリエ変換フィルタを用いた検査装置及び検査方法では、繰り返しパターンからの回折光の除去には有効であるが、不規則な回路パターンのエッジ部からの反射光は除去できず、エッジ部処理やエッジ部近傍における異物と疑似不良の識別等高度な画像処理が必要でありる。【解決手段】ウエハ9を搭載するステージ1と、ウエハ9に光線をウエハ9に対して斜めから照射する投光手段2と、ウエハ9上の異物11からの散乱光を対物レンズ7で集光し光検出器8上に結像させる受光手段3と、光検出器8の検出結果を画像処理して異物判別を行う検査部4と、受光手段3の対物レンズ7の前方に置かれウエハ9上の回路パターン10のエッジ ゙部の反射光13を遮光する空間フィルタ5と、全体を制御するコンピュータ6とで構成されている。

請求項（抜粋）：

不規則な回路パターンを有する半導体ウエハの検査装置において、被検査ウエハを搭載するステージと、光線を該ウエハに対して斜め方向から照射する投光手段と、前記ウエハの上方に設けられ、ウエハ上の異物からの散乱光を対物レンズで集光し光検出器上に結像させる受光手段と、前記光検出器の検出結果を画像処理して異物判別を行う検査部と、前記受光手段の対物レンズの前方に設けられ、前記ウエハ上の回路パターンエッジ ゙部からの反射光を遮光する空間フィルタとを有することを特徴とする半導体ウエハの検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/66 J

Fターム (42件)：

2F065AA49 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR08 ,  2F065TT02 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA25 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB07 ,  4M106DB12 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ20