特許
J-GLOBAL ID：200903078429191550
ポリッシング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-027630
公開番号（公開出願番号）：特開平8-197427
出願日： 1995年01月24日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【目的】 研磨対象物の全面を高い平面度に研磨できるポリッシング装置を提供する。【構成】 各々独立した回転数で回転する上面に研磨布3を張ったターンテーブル1とトップリング4とを有し、ターンテーブル1とトップリング4との間にポリッシング対象物5を介在させてポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、ターンテーブル1上部に半径方向に複数のノズル10A,10B...10Gを配設し、複数のノズルから異なる濃度の砥液をターンテーブル1に張られた研磨布3上に供給する。
請求項（抜粋）：
各々独立した回転数で回転する上面に研磨布を張ったターンテーブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ターンテーブル上部の半径方向に複数のノズルを配設し、該複数のノズルから異なる濃度の砥液を前記ターンテーブルに張られた研磨布上に供給することを特徴とするポリッシング装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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