特許
J-GLOBAL ID:200903078432491182

ガス遮断性プラスチックス材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 秀夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-195786
公開番号(公開出願番号):特開平5-345831
出願日: 1992年06月15日
公開日(公表日): 1993年12月27日
要約:
【要約】【目的】 薄いガス遮断性被膜を表面に形成したプラスチックス材を製造する方法を提供する。【構成】 低温プラズマ法により有機シリコン化合物モノマーをプラズマとなし、このプラズマでプラスチックス基体を処理して表面に有機シリコン化合物重合体の被膜を形成し、ついでこの基体の有機シリコン化合物重合体の被膜上にシリコン酸化物膜を被覆することを特徴とするガス遮断性プラスチックス材の製造方法であって、有機シリコン化合物モノマーはビニルアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等であり、低温プラズマ法は高周波プラズマ法、交流プラズマ法、マイクロ波プラズマ法等である。
請求項(抜粋):
低温プラズマ法により有機シリコン化合物モノマーをプラズマとなし、このプラズマでプラスチックス基体を処理して表面に有機シリコン化合物重合体の被膜を形成し、ついでこの基体の有機シリコン化合物重合体の被膜上にシリコン酸化物膜を被覆することを特徴とするガス遮断性プラスチックス材の製造方法。
IPC (4件):
C08J 7/18 ,  C08J 7/04 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101
引用特許:
審査官引用 (2件)

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