特許

J-GLOBAL ID：200903078452424708

真空ロードロック装置及び露光装置

発明者： 片桐 惠 ,  菊地 秀和
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-010660
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228114
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】大気開放時や真空排気の際に、基板の表面へのゴミの付着を防止する機構を備えた真空ロードロック装置を提供する。【解決手段】真空ロードロック装置1のロードロック室81内には、基板Wの表面を覆うカバー3が設けられている。真空排気時及び大気導入時には、カバー3が駆動機構5によって下降し、基板Wの表面とカバー3との間隙を狭くして、基板Wの表面へのゴミ付着を防止する。駆動機構5は、カバー3に直結するシャフト7を往復運動させるエアシリンダ15と、シャフト7を上下に直線運動させるガイド45と、シャフト7が真空雰囲気内で往復運動するようにシャフト周囲を大気から遮断するベローズ35とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被取扱い試料である基板を収容するロードロック室と、 該ロードロック室と外界又は真空チャンバとをつなぎ前記基板の通るゲートバルブと、 該ロードロック室内の空気を排気する真空ポンプと、 該ロードロック室への大気導入手段と、を具備する真空ロードック装置であって、 さらに、前記基板表面を覆うカバー、及び、該カバーの駆動機構を具備し、 真空排気時及び大気導入時に、前記基板表面と前記カバーとの間隙を狭くして、 前記基板表面へのゴミ付着を防止することを特徴とする真空ロードロック装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  B65G49/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 541L ,  B65G49/00 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 531A

Fターム (23件)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031KA06 ,  5F031LA08 ,  5F031LA15 ,  5F031MA27 ,  5F031NA09 ,  5F031NA18 ,  5F046GA08 ,  5F056EA12 ,  5F056EA13 ,  5F056EA16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-076215
  
• 荷電ビーム描画装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-205834   出願人：株式会社東芝
• 特開平3-076215
  
• ロードロック室
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-246200   出願人：株式会社ニコン