特許
J-GLOBAL ID：200903078475986282
光ディフラクター
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-267920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-104328
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 品質が安定しており、しかも集積化が容易な光ディフラクターを提供する。【構成】 光ディフラクターは、光導波路に多孔質シリコン膜30を用いたものである。多孔質シリコンは、入力光強度が大きいときに光透過率が小さくなり、入力光強度が小さいときに光透過率が大きくなるという特性を有する。多孔質シリコン膜30はたとえば陽極化成法を用いて作製することができる。かかる光ディフラクターでは、まず、ポンプ光L1 ,L2 を異なる入射角で多孔質シリコン膜30に入射させると、多孔質シリコン膜30内でポンプ光L1 ,L2 の干渉が起こり、光の吸収による明暗の縞模様が形成される。そして、多孔質シリコン膜30に光ビームLを入力させると、この縞模様により入力ビームLを回折することができる。
請求項（抜粋）：
光の伝搬方向を変化させる光ディフラクターにおいて、光導波路に非線形な光透過率を有する多孔質シリコンを用いたことを特徴とする光ディフラクター。
IPC (2件)：
G02F 1/35
, G02F 1/35 505
