特許

J-GLOBAL ID：200903078477694378

基板処理方法および基板処理装置

発明者： 今西 保夫 ,  大谷 正美 ,  辻 雅夫 ,  岩見 優樹 ,  西村 譲一 ,  森田 彰彦 ,  川本 隆範
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110384
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284575
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】 同一の処理条件で同一の処理を並行して行う複数の同一基板処理部が含まれているときに、処理経路にかかわらず同一ロットの複数の基板の処理履歴が等しくなる方法を提供する。【解決手段】 基板処理時間を管理しようとする基板処理部16における基板処理時間が、基板搬送手段が複数の基板処理部10〜18のいずれに対しても待機することなく基板を搬送して複数の基板処理部を一巡するのに要する一周搬送所要時間のうちの最長のものと同等もしくはそれ以上となるように、基板処理部における基板処理時間を変更する。

請求項（抜粋）：

基板搬送手段を複数の基板処理部に対して所定の順序で循環移動させながら、複数の基板を1枚ずつ基板搬送手段により各基板処理部へ順次搬送して各基板処理部で基板に対し所要の処理をそれぞれ施す基板処理方法において、前記複数の基板処理部の中に、同一の処理条件で同一の処理を並行して行う複数の同一基板処理部が含まれ、前記基板搬送手段が前記複数の基板処理部のいずれに対しても待機することなく基板を所定速度で搬送して複数の基板処理部を一巡するのに要する一周搬送所要時間のうちの最長のものが、前記複数の同一基板処理部を除くすべての基板処理部における基板処理時間、および、前記複数の同一基板処理部における基板処理時間を同一基板処理部の数で除した見掛けの基板処理時間のいずれよりも長いときに、前記複数の同一基板処理部を除く基板処理部のうち基板処理時間を管理しようとする対象基板処理部における基板処理時間、または、基板処理時間を管理しようとする複数の対象同一基板処理部における見掛けの基板処理時間が、前記一周搬送所要時間のうちの最長のものと同等もしくはそれ以上となるように、前記対象基板処理部または前記対象同一基板処理部における基板処理時間を変更することを特徴とする基板処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 568