分別したノボラック樹脂およびそれから得られるフォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江崎光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-539076
公開番号（公開出願番号）：特表2002-508415
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】本発明は、ノボラック樹脂フラクションを単離することによって、一様な分子量を持ちそしてフォトレジスト組成物中で優れた性能を示す造膜性の分別されたノボラック樹脂を製造する方法を提供する。更に、このような分別されたノボラック樹脂からフォトレジスト組成物を製造する方法およびこのようなフォトレジスト組成物を用いて半導体デバイスを製造する方法も提供される。

請求項（抜粋）：

造膜性ノボラック樹脂を製造する方法において、a) 酸触媒の存在下に、ホルムアルデヒドと一種類以上のフェノール化合物とを縮合させ、それによってノボラック樹脂縮合生成物を生成し、次に未反応の置換フェノール化合物を除き;b) このノボラック樹脂にフォトレジスト溶剤、次いで水溶性極性有機溶剤および水をフォトレジスト溶剤:水溶性極性有機溶剤:水=(1〜9):(1〜5 ):(3〜7)の比で添加し、それによってノボラック樹脂縮合生成物の溶液を生じさせ、上側溶液層と下側溶液層との二つの層に分離し、次いで上側層を除き;c) 段階b) の後に残留した下側層溶液に水溶性極性有機溶剤および水を水溶性極性有機溶剤:水=(1〜10):(10〜1)の比で添加し、それによって段階b) からの下側層溶液を上側溶液層と下側溶液層との二つの層に分離し、次いで上側層を除き;d) 段階c) から得られる下側層溶液から水および水溶性極性有機溶剤を除き、それによって造膜性の分別されたノボラック樹脂溶液を製造する、ことを含む上記方法。

IPC (3件)：

C08G 8/08 , C08G 8/00 , G03F 7/023 511

FI (3件)：

C08G 8/08 , C08G 8/00 F , G03F 7/023 511

Fターム (20件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BJ10 , 2H025CB29 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J033CA02 , 4J033CA11 , 4J033CA12 , 4J033CC03 , 4J033CC08 , 4J033CC09 , 4J033CD03 , 4J033CD05 , 4J033HB10

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平2-060915

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