特許
J-GLOBAL ID:200903078481259295

多層ヘテロ構造膜およびこれを用いた光学素子ならびにその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志村 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-173648
公開番号(公開出願番号):特開2001-350015
出願日: 2000年06月09日
公開日(公表日): 2001年12月21日
要約:
【要約】【課題】 多層ヘテロ構造膜を大面積にわたって成膜する。【解決手段】 ガラス基板10上に、無機材料層X1〜X7と、有機材料層Y2〜Y6とを交互に形成し多層ヘテロ構造の膜にする。無機材料層X1〜X7は、表面処理によりOH-基で覆われた基板10を、金属アルコキシド溶液中に浸し、リンス浴後に、加水分解工程を行い、液相、ゾル、ゲルを経て固体の金属酸化物層を得るゾル-ゲル法により形成する。有機材料層Y2〜Y6は、正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液とに基板10を交互に浸す交互吸着法により形成する。各層の屈折率および厚みを選択することにより、所望の光学特性をもった多層ヘテロ構造膜を作成することができ、光学的な反射膜、透過膜、光共振器などを実現できる。
請求項(抜粋):
ゾル-ゲル法により形成された第1の層と交互吸着法により形成された第2の層とを交互に積層してなる多層ヘテロ構造膜。
IPC (4件):
G02B 5/28 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/26 ,  H01L 51/00
FI (4件):
G02B 5/28 ,  G02B 5/08 C ,  G02B 5/26 ,  H01L 29/28
Fターム (12件):
2H042DA01 ,  2H042DA08 ,  2H042DB02 ,  2H042DC01 ,  2H042DE07 ,  2H048FA04 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA24 ,  2H048GA05 ,  2H048GA35 ,  2H048GA60
引用特許:
出願人引用 (5件)
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