特許

J-GLOBAL ID：200903078489262791

排ガス処理装置

発明者： 大藤 良夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-017939
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204454
出願日： 1994年01月17日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】 効率良く希釈できしかも安全かつ容易に内部を洗浄できる排ガス処理装置を提供すること。【構成】 導入される排ガスと水とを混ぜ合わせる混合処理室2および霧状処理室3と、混合処理室2と連通する希釈室4と、希釈室4へ排ガスを導く排ガス導入部5とを備えた排ガス処理装置1で、希釈室4へ導入する前の排ガスを水と接触させる水接触機構50を排ガス導入部5に備える。また、フィルタ8とファン9との間に交差板81を備えたり、混合処理室2、霧状処理室3、希釈室4の内面に塩化ビニル10を被覆したり、希釈室4に開閉自在な扉42を備えたり、フッ酸を自動供給するHF供給機構71を備えた排ガス処理装置1でもある。

請求項（抜粋）：

導入される排ガスと水とを混ぜ合わせて霧状の溶液を生成するための筒状の排ガス処理室と、前記排ガス処理室から側方に突出しかつ該排ガス処理室と連通して設けられかつ外部から空気を吸入する吸気孔を備えた希釈室と、前記希釈室へ前記排ガスを導くための排ガス導入部と、前記水を蓄積するため前記排ガス処理室の下方に配置されたタンクおよび該タンクから該排ガス処理室に水を供給する供給ラインから構成される供給部と、前記排ガス処理室の上方に配置されるフィルタを備えた水分除去部と、前記水分除去部のフィルタを介して希釈された排ガスを外部に排出するための吸引部とから成る排ガス処理装置であって、前記排ガス導入部は、前記希釈室に導入する前の排ガスを水と接触させるための水接触手段を備えていることを特徴とする排ガス処理装置。

IPC (3件)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77 ZAB ,  H01L 21/205