特許
J-GLOBAL ID:200903078494888127

パターンマッチング方法及びその方法に適用する画像処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川崎 勝弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-237568
公開番号(公開出願番号):特開平9-054831
出願日: 1995年08月10日
公開日(公表日): 1997年02月25日
要約:
【要約】【課題】パターンの比較照合に要する時間を短縮することができるパターンマッチング方法及びその画像処理装置を提供すること【解決手段】基準パターンからなる基準画面の多階調画素データを格納する基準画面メモリ7の画素データに階調差を示す値を加算減算回路51、52で加算減算をし、この加算減算したそれぞれのデータ値と被検査パターンを含む検査画面の多階調画素データを格納する検査画面メモリ7の画素データと比較回路53、54で比較し、比較した結果に基づいて検査画面の画素データが設定した階調差の範囲内にあるとき出力する判定回路55を有し、その出力を比較/計数回路56にて計数し、基準画面の検査画面上の間歇移動後その計数値の最大値を示した位置を被検査パターンの位置と特定する。
請求項(抜粋):
被検査パターンを含む検査画面上を基準パターンからなる基準画面をXおよびY方向に間歇移動させて各位値の検査画面と基準画面との相関値を求め、その相関値が最大となるXY座標により、被検査パターンの位置を求めるパターンマッチング方法であって、前記検査画面の画素データおよび基準画面の画素データのいずれか一方の画素データ値に所定値を加算および減算し、他方の画素データ値と前記加算および減算したデータ値と比較し、他方の画素データ値が前記加算および減算したデータ値の間にあるとき加算計数し、各位値における基準画面分の計数値の内最大となる基準画面の座標を求め、この座標により前記被検査パターンの位置を特定することを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (2件):
G06T 7/60 ,  G06T 7/00
FI (3件):
G06F 15/70 350 B ,  G06F 15/62 405 C ,  G06F 15/70 460 A
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 撮影装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-183673   出願人:コニカ株式会社
  • 特開昭59-069876

前のページに戻る