特許
J-GLOBAL ID：200903078502188997
磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体、並びに磁気記録再生装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
寺田 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-257153
公開番号（公開出願番号）：特開2008-077788
出願日： 2006年09月22日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】非磁性基板上に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクが少なく、表面の平滑性が高い製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板上に磁性層を形成した後、その磁性層に部分的に原子を注入し、磁性層の原子を注入した箇所を非磁性化または非晶質化することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、磁性層に部分的に原子を注入する工程が、磁性層を形成した後に表面にレジストとしてSOG(スピン・オン・グラス)膜を塗布し、そのレジストを部分的に除去または膜厚を薄くし、その表面に原子を照射することにより、レジストを除去または薄くした箇所を通して磁性層に部分的に原子を注入する工程を含む構成とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に磁性層を形成した後、その磁性層に部分的に原子を注入し、磁性層の原子を注入した箇所を非磁性化または非晶質化することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層に部分的に原子を注入する工程が、磁性層を形成した後に表面にレジストとしてSOG(スピン・オン・グラス)膜を塗布し、そのレジストを部分的に除去または膜厚を薄くし、その表面に原子を照射することにより、レジストを除去または薄くした箇所を通して磁性層に部分的に原子を注入する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D006EA03
, 5D006FA05
, 5D112AA05
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112FA06
, 5D112FB04
, 5D112GA02
, 5D112GA12
, 5D112GA20
, 5D112GA30
, 5D112GB01
, 5D112GB07
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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