ガス過飽和流体の高圧送出しシステム及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外10名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-509468
公開番号（公開出願番号）：特表2001-514937
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：

【要約】ガス過飽和流体を生じさせてこの流体を高い送出し圧力で投与し、それにより気泡生成を防止するためのシステム(10)及び方法が開示される。システム(10)は、過飽和されるべき流体の入った取外し可能な流体組立体(20)及び流体を投与部位に投与する駆動組立体(30)を収容したハウジング(40)を有する。ハウジング組立体(40)は、シリンダ(50)及び流体を加圧して送りだすためにシリンダ(50)の内面に沿って送り進めることができるピストン(52)を有する。過飽和流体を生じさせるために、ハウジング組立体(40)をシステムハウジングから取り外して流体で充填し、そしてガスを所望のガス分圧で又はこれよりも僅かに高い圧力でシリンダ(50)中へ注入する。ガス過飽和流体を送りだすために、流体組立体(20)をシステムハウジングに戻し、駆動組立体(30)は、ピストン(52)を前進させて静圧を所望の送出し圧力まで増大させ、そして弁(57)の開放後、ガス過飽和流体を所望の高い送出し圧力で投与部位に送り出す。

請求項（抜粋）：

ガス過飽和流体を生成し、又は投与部位に送り出す装置であって、流体及びガスを収容していて、流体及びガスを出し入れするための1又は2以上のポートを有するシリンダ及び該シリンダ内で移動するようになっていて、前記シリンダの内容物を加圧し、ガス過飽和流体を所定の流体送出し圧力で送りだすピストンを有する流体組立体と、前記ピストンを前記シリンダ内で前進させるピストンプッシャ及びピストンプッシャを前進させる駆動システムを有する駆動組立体と、流体組立体及び駆動組立体を収容するシステムハウジングとから成り、流体組立体は、ガス過飽和流体の前記生成のためにシステムハウジングから取り出せることを特徴とする装置。

IPC (2件)：

A61M 1/32 , A61M 5/142

FI (2件)：

A61M 1/32 , A61M 5/14 481

Fターム (23件)：

4C066AA07 , 4C066BB01 , 4C066CC01 , 4C066DD02 , 4C066DD12 , 4C066EE04 , 4C066EE14 , 4C066HH02 , 4C066QQ35 , 4C066QQ92 , 4C077AA03 , 4C077BB07 , 4C077DD10 , 4C077DD15 , 4C077HH10 , 4C077HH13 , 4C077HH14 , 4C077HH15 , 4C077JJ09 , 4C077JJ13 , 4C077JJ15 , 4C077JJ16 , 4C077KK19

引用特許：

審査官引用 (1件)

予充填式注射器
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-038910 出願人：株式会社ニッショー

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