特許
J-GLOBAL ID：200903078532736379
ホトレジスト塗布方法およびホトレジスト塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-125074
公開番号（公開出願番号）：特開平8-321449
出願日： 1995年05月24日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：
【要約】【目的】 微妙な膜厚誤差の補正が可能で、ホトレジストの種類や塗布膜厚の変更に容易に対処でき、塗布均一性を確保できる塗布装置を提供することを目的とする。【構成】 モーター12の回転軸心に対して同心円状に通気路を介して設置した電極群からなる第一電極16と第二電極17の間に電圧を印可することによって、空気をイオン化し、電極間にイオン電流が流れる。第一電極16と第二電極17の間を移動するイオン原子は空気分子に運動エネルギーを与え、被塗布基板10の主表面と垂直な方向に空気流をつくりだす。空気流速は、第一電極16と第二電極17間の電位差に依存するため、第一電極16と第二電極17の双方または片方の面内電位分布を制御することによって、被塗布基板10に送られる空気の風速分布を基板表面の中心から同心円状に調整することができる。
請求項（抜粋）：
垂直軸回りに回転する水平姿勢の被塗布基板の上面にホトレジストを供給して塗布するとともに、前記被塗布基板の回転中心から外周にかけて漸次低減する風速分布の空気を、前記被塗布基板の上方から吹き付けて前記ホトレジストを乾燥するホトレジスト塗布方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, B01J 19/00
, B05C 5/00 101
, B05D 1/40
, G03F 7/16 502
, B05C 11/08
H01L 21/30 564 C
, B01J 19/00 K
, B05C 5/00 101
, B05D 1/40 A
, G03F 7/16 502
, B05C 11/08
, H01L 21/30 564 D
