特許
J-GLOBAL ID：200903078536878526
露光用原図基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-148397
公開番号（公開出願番号）：特開平6-337515
出願日： 1993年05月28日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】 ハーフトーンマスクやハーフトーンレチクルを用いたフォトリソグラフィの露光において、形成する素子自身のパターン領域以外の部分には余分な光が洩れないようにすることを目的とする。【構成】 露光領域1の境界より始まる遮光領域2の外側を照射範囲4より大きく形成する。
請求項（抜粋）：
露光光線を透過する透過性基板上に、前記露光光線をある程度透過するハーフトーン遮光体を用いてパタンを形成した露光用原図基板において、前記ハーフトーン遮光体によりパタンを形成した領域の周囲に、ほぼ完全な遮光体による遮光領域を設けたことを特徴とする露光用原図基板。
IPC (2件)：
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