特許

J-GLOBAL ID：200903078540894439

選択反射膜及びその製造方法

発明者： 市橋 光芳
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-159358
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350642
出願日： 2001年05月28日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 画素境界部における色相の滲み等に起因する色純度や解像度の低下を回避でき、選択反射する色相の色純度が高く、解像度に優れ、しかもマスク汚れをも防止し得る選択反射膜の製造方法を提供する。【解決手段】 液晶性化合物と光反応性キラル化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて、スメクチック相状態、微液晶状態若しくはガラス状態を示す液晶性組成物層を基板上に形成する工程と、スメクチック相状態、微液晶状態若しくはガラス状態を示す液晶性組成物層に、第一の光を照射して該液晶性組成物層に露光量分布を形成する工程と、露光量分布が形成された液晶性組成物層を昇温して液晶状態に転移させ、前記露光量分布に応じて選択反射する領域を形成する工程と、前記領域が形成された前記液晶性組成物層に第二の光を照射し、重合若しくは架橋させて硬化する工程とを有することを特徴とする選択反射膜の製造方法である。

請求項（抜粋）：

重合性基を少なくとも1つ有する液晶性化合物と、光反応性キラル化合物と、重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて、スメクチック相状態、微液晶状態若しくはガラス状態を示す液晶性組成物層を基板上に形成する工程と、スメクチック相状態、微液晶状態若しくはガラス状態を示す液晶性組成物層に、第一の光を照射して該液晶性組成物層に露光量分布を形成する工程と、露光量分布が形成された液晶性組成物層を昇温して液晶状態に転移させ、前記露光量分布に応じて選択反射する領域を形成する工程と、前記領域が形成された前記液晶性組成物層に第二の光を照射し、重合若しくは架橋させて硬化する工程と、を有することを特徴とする選択反射膜の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/26 ,  G02F 1/1335

FI (5件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/26 ,  G02F 1/1335

Fターム (24件)：

2H048AA06 ,  2H048AA18 ,  2H048BA43 ,  2H048BA47 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H048FA04 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA15 ,  2H049BA03 ,  2H049BA06 ,  2H049BA16 ,  2H049BA42 ,  2H049BA43 ,  2H049BA47 ,  2H049BC04 ,  2H091FA14Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FC23 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16