焼成装置のクリーニング方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-399216
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203847
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】隔壁を介して電子線発生部に接続された処理容器内及び隔壁に付着する生成物を除去する。【解決手段】隔壁10を介して電子線発生部9に接続された処理容器8内を酸化性ガス雰囲気にしつつ、電子線発生部9から隔壁10を介して処理容器8内に電子線を照射し、隔壁10及び処理容器8内に付着する生成物を効果的に酸化・除去する。

請求項（抜粋）：

処理容器と、この処理容器内に設置され,被処理基板が載置される試料支持台と、この試料支持台に設けられた加熱機構と、前記処理容器に接続された電子線発生部と、前記処理容器と前記電子線発生部との間に挿入された隔壁とを具備し、前記被処理基板を加熱しつつ、前記電子線発生部から前記隔壁を介して前記被処理基板に対して電子線を照射して、被処理基板のアニール処理を行う焼成装置に対して、前記隔壁及び処理容器内に付着する生成物の除去処理を行う焼成装置のクリーニング方法であって、前記処理容器内を酸化性ガス雰囲気にする工程と、前記処理容器内が酸化性ガス雰囲気の状態で、前記電子線照射部から前記隔壁を介して前記処理容器内に電子線を照射する工程と、前記処理容器内に照射された電子線により励起する前記酸化性ガスと、前記隔壁及び処理容器内の一部に付着する生成物とを反応させて、該生成物を除去する工程とを含むことを特徴とする焼成装置のクリーニング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/31 , G21K 5/00 , G21K 5/04

FI (4件)：

H01L 21/31 B , G21K 5/00 B , G21K 5/00 W , G21K 5/04 E

Fターム (10件)：

5F045AA14 , 5F045AB32 , 5F045AC11 , 5F045AF19 , 5F045EB06 , 5F045EK07 , 5F045EK11 , 5F045EK26 , 5F045EM10 , 5F045HA16

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