特許
J-GLOBAL ID:200903078565324513

排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保田 耕平 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-243985
公開番号(公開出願番号):特開平8-105317
出願日: 1994年10月07日
公開日(公表日): 1996年04月23日
要約:
【要約】【目的】大気圧下での低温プラズマにより排ガス中のNOX およびパーティキュレートを安定かつ効果的に低減させる。【構成】高電気伝導性材料からなる基板層1と、セラミック材料からなる電子絶縁層2と、耐熱性の高電気伝導性材料からなる電極3とを積層して構成され、前記基板層および電極間に交流電源5を接続し、大気圧下での低温プラズマにより排ガス中の残存酸素を励起させ、励起種とパーティキュレートの反応によるにCO2化と励起種によるNOX の分解を行う。
請求項(抜粋):
高電気伝導性材料からなる基板層と、セラミック材料からなる電子絶縁層と、耐熱性の高電気伝導性材料からなる電極とを積層して構成され、前記基板層および電極間に交流電源を接続し、大気圧下での低温プラズマにより排ガス中の残存酸素を励起させ、励起種とパーティキュレートの反応によるにCO2化と励起種によるNOX の分解を行うことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5件):
F01N 3/08 ZAB ,  F01N 3/08 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  F01N 3/02 301

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