特許
J-GLOBAL ID：200903078574687947
高活性化イオン濃度を有するレーザ材料およびマイクロレーザキャビティならびにそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-187794
公開番号（公開出願番号）：特開平10-065258
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 高濃度の活性化イオン、より具体的には少なくとも2%以上の濃度でドープした活性レーザ材料、およびそれからマイクロレーザ(マイクロレーザキャビティ)およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上で液相エピタキシャル成長法により活性媒質を生成し、次いで基板を除去してマイクロレーザを製造する。マイクロレーザあるいはマイクロレーザキャビティは、反射鏡を備える。キャビティは、ポンピングビームを介して励起される。
請求項（抜粋）：
結晶質の材料 YAGまたはYLiF4 を備え、ネオジムイオンNd3+で2%と15%の間の濃度でドープされると共に、液相エピタキシャル成長法で生成されることを特徴とする活性レーザ材料。
引用特許：
引用文献：
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