特許
J-GLOBAL ID:200903078585245083

半導体ウエーハ保持装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志波 邦男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-082381
公開番号(公開出願番号):特開平7-273056
出願日: 1994年03月29日
公開日(公表日): 1995年10月20日
要約:
【要約】【目的】 ウエーハの熱処理工程時にスリップが発生しないウエーハ保持装置を提供する。【構成】 各々半導体ウエーハを支持するための複数のウエーハ挿入溝24を有し且つ相互に平行に設けられた第1ないし第3の支持棒21、22、23を備え、軸線方向と垂直な面における各支持棒の位置関係が第1の支持棒21の中心軸を頂点として第2及び第3の支持棒22、23の中心軸が二等辺三角形を成し且つその頂角がほぼ135°となるように配置する。その製造時には、第1ないし第3の支持棒21、22、23を相互に平行且つ軸線方向と垂直な面において第1の支持棒21の中心軸を頂点として第2及び第3の支持棒22、23の中心軸が二等辺三角形を成し且つその頂角がほぼ135°となるように配置して相互に連結固定した後、各支持棒について1個ずつ計3個のウエーハ挿入溝24が軸線と垂直な同一面上にあるように円板状切刻手段により同時に形成する。
請求項(抜粋):
熱処理炉内にて半導体ウエーハを保持する半導体ウエーハ保持装置において、各々半導体ウエーハを支持するための複数のウエーハ挿入溝を有し且つ相互に平行に設けられた第1ないし第3の支持棒を備え、該第1ないし第3の支持棒の軸線方向と垂直な面における各支持棒の位置関係が、前記第1の支持棒の中心軸を頂点として前記第2及び第3の支持棒の中心軸が二等辺三角形を成し且つその頂角がほぼ135°となるように配置され、前記半導体ウエーハをその周縁上の3点で支持することを特徴とする半導体ウエーハ保持装置。
IPC (3件):
H01L 21/22 501 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平2-060145
  • 特開平2-054924
  • 特開昭62-123713

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