特許

J-GLOBAL ID：200903078612841068

凹凸パターン形成材料、凹凸パターン受容体、凹凸パターン形成方法、転写箔、及び光学物品

発明者： 北條 美貴子
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-171317
公開番号（公開出願番号）：特開2005-010231
出願日： 2003年06月16日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】版取られが少なく、賦型性及び賦型維持性に優れ、凹凸パターンを有する表面構造を精度よく、高速に複製できる凹凸パターン形成材料、特に、近年の非常に複雑な微細凹凸パターンまで正確に複製できる凹凸パターン形成材料を提供する。また、凹凸パターン受容体、凹凸パターン転写箔、凹凸パターン形成方法、及び光学物品を提供する。【解決手段】下記(A)成分、及び(B)成分を含有し、且つ、(A)成分が固形分全体の40質量%以上含まれる光硬化性樹脂組成物である、凹凸パターン形成材料である。(A):1分子内にエチレン性不飽和結合を2つ以上及び環状構造を含み、25°Cにおける粘度が50000mPa・s以上であり、且つ分子量が5000以下である光硬化性モノマー及び/又はオリゴマー(B):25°Cにおける粘度が100000mPa・s以上であり、且つ分子量が10000以上であるポリマー【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記(A)成分、及び(B)成分を含有し、且つ、(A)成分が固形分全体の40質量%以上含まれる光硬化性樹脂組成物からなる、凹凸パターン形成材料。 (A):1分子内にエチレン性不飽和結合を2つ以上及び環状構造を含み、25°Cにおける粘度が50000mPa・s以上であり、且つ分子量が5000以下である光硬化性モノマー及び/又はオリゴマー (B):25°Cにおける粘度が100000mPa・s以上であり、且つ分子量が10000以上であるポリマー

IPC (10件)：

G02B5/18 ,  B29C43/28 ,  C08F2/44 ,  C08F290/06 ,  G02B1/04 ,  G02B1/11 ,  G02B3/00 ,  G02B3/08 ,  G02B5/02 ,  G02B5/30

FI (11件)：

G02B5/18 ,  B29C43/28 ,  C08F2/44 C ,  C08F290/06 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 A ,  G02B3/00 Z ,  G02B3/08 ,  G02B5/02 B ,  G02B5/30 ,  G02B1/10 A

Fターム (96件)：

2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA13 ,  2H049AA25 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BB46 ,  2H049BC01 ,  2H049BC05 ,  2K009AA12 ,  2K009CC24 ,  2K009DD05 ,  2K009DD15 ,  4F204AA36 ,  4F204AA43 ,  4F204AF01 ,  4F204AG03 ,  4F204AG05 ,  4F204FB02 ,  4F204FF01 ,  4F204FF05 ,  4F204FN04 ,  4J011PA52 ,  4J011PA64 ,  4J011PA65 ,  4J011PA69 ,  4J011PA84 ,  4J011PA85 ,  4J011PA86 ,  4J011PA88 ,  4J011PA95 ,  4J011PA96 ,  4J011PA97 ,  4J011PA99 ,  4J011PB32 ,  4J011PB40 ,  4J011QA04 ,  4J011QA07 ,  4J011QA12 ,  4J011QA17 ,  4J011QA23 ,  4J011QA34 ,  4J011QA37 ,  4J011QB01 ,  4J011QB13 ,  4J011QB24 ,  4J011QC02 ,  4J011QC03 ,  4J011RA06 ,  4J011RA07 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J027AA02 ,  4J027AB03 ,  4J027AB10 ,  4J027AB23 ,  4J027AE02 ,  4J027AE03 ,  4J027AE04 ,  4J027AE07 ,  4J027AG01 ,  4J027AG13 ,  4J027AG14 ,  4J027AG15 ,  4J027AG23 ,  4J027AG24 ,  4J027AG25 ,  4J027AG27 ,  4J027AG28 ,  4J027AG33 ,  4J027AJ01 ,  4J027AJ03 ,  4J027BA07 ,  4J027BA08 ,  4J027BA09 ,  4J027BA13 ,  4J027BA19 ,  4J027BA24 ,  4J027BA25 ,  4J027BA26 ,  4J027BA28 ,  4J027CA02 ,  4J027CA03 ,  4J027CA04 ,  4J027CA06 ,  4J027CA07 ,  4J027CA10 ,  4J027CB10 ,  4J027CC05 ,  4J027CD04 ,  4J027CD10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 拡散反射板の製造法及び転写フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-059551   出願人：日立化成工業株式会社
• 光硬化性樹脂組成物及び凹凸パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-209875   出願人：大日本印刷株式会社
• 光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン転写箔、光学物品、スタンパー及び微細凹凸パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-154630   出願人：大日本印刷株式会社