磁気光学薄膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高島一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-328071
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140791
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【構成】陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に析出させた後、研磨処理および熱処理を行うことを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。【効果】本発明の製造方法によって、従来のものよりさらにθk とS/N比が大きく、高密度記録可能な優れた磁気光学薄膜を作製することができる。

請求項（抜粋）：

陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に析出させた後、研磨処理および熱処理を行うことを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

C25D 5/10 , C25B 11/03 , C25B 11/04 , C25D 3/56 , C25D 11/20 302

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