特許

J-GLOBAL ID：200903078624362599

ガス回収装置

発明者： 野沢 成禎 ,  富田 伸二
出願人/特許権者： テイサン株式会社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-179923
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029002
出願日： 1995年07月17日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【目的】 回収効率が高く、運転経費の安いガスリサイクル装置を提供すること。【構成】 希釈用不活性ガスを供給する不活性ガス供給路G1と洗浄用ガスを供給する洗浄用ガス供給路G2とを接続してあるガス導入部A3を備え、排ガスを放出する排ガス排出部A4を備えてなるCVD装置Aを設け、CVD装置Aからの排ガスを流通させる排ガス流通部D1と、排ガス中の洗浄用ガスを冷却して液化させる冷却部D4と、冷却部で液化した洗浄用ガスを回収する回収部4とを設け、希釈用不活性ガスを、洗浄用ガスの沸点よりも低い沸点を有するガスから構成し、希釈用不活性ガスと同じ組成からなる冷却用不活性ガスを液体状態で供給する供給部6と、冷却用不活性ガスの気化熱により冷却する不活性ガス流通部D3と、不活性ガス流通部D3において気化した冷却用不活性ガスを排出する不活性ガス排出部7とを設けて冷却部D4を構成し、不活性ガス排出部7を不活性ガス供給路Gに接続してある。

請求項（抜粋）：

希釈用不活性ガスを供給する不活性ガス供給路(G1)と洗浄用ガスを供給する洗浄用ガス供給路(G2)とを接続してあるガス導入部(A3)を備えるとともに、排ガスを放出する排ガス排出部(A4)を備えてなるCVD装置(A)を設け、前記CVD装置(A)からの排ガスを流通させる排ガス流通部(D1)と、前記排ガス中の前記洗浄用ガスを冷却して液化させる冷却部(D4)と、前記冷却部(D4)で液化した洗浄用ガスを回収する回収部(4)とを設け、前記回収部で回収された前記洗浄用ガスを前記ガス導入部(A)に供給するガスリサイクル路を設けたガス回収装置。

IPC (6件)：

B01D 8/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  F28B 1/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

B01D 8/00 Z ,  C23C 16/44 E ,  C23F 4/00 Z ,  F28B 1/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B