特許
J-GLOBAL ID:200903078628096400

電極、SiCの電極及びSiCデバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安富 耕二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-271947
公開番号(公開出願番号):特開2000-101064
出願日: 1998年09月25日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 SiCの電極において、高温アロイ処理、高キャリア濃度のイオン注入を必要とすることがなく、オーミック接触をとることができる電極構造を得る。【解決手段】 SiC1にNbドープチタン酸ストロンチウムなどの導電性酸化物2を介してTi,Alなどの金属電極3を設けてSiCの電極を構成する。
請求項(抜粋):
所定の導電型を有する半導体と、該半導体上に形成された、該導電型と同じ導電型の導電性酸化物からなる電極と、からなる電極。
FI (2件):
H01L 29/46 Z ,  H01L 29/46 F
Fターム (20件):
4M104AA03 ,  4M104BB01 ,  4M104BB02 ,  4M104BB06 ,  4M104BB14 ,  4M104BB36 ,  4M104BB40 ,  4M104CC01 ,  4M104DD34 ,  4M104DD37 ,  4M104DD55 ,  4M104FF13 ,  4M104GG06 ,  4M104GG07 ,  4M104GG09 ,  4M104GG11 ,  4M104GG12 ,  4M104GG20 ,  4M104HH15 ,  4M104HH20

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