特許

J-GLOBAL ID：200903078633067010

電子線用転写マスク

発明者： 河田 真太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099542
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292911
出願日： 1999年04月07日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【目的】パターンのつなぎ精度を確保しつつ、マスクサイズを必要最低限に抑えることができるマスクを提供する。【解決手段】感応基板に転写すべきパターンを形成したメンブレンと、該メンブレンを複数の長方形の領域に分割する支柱と、を備えた電子線用転写マスクにおいて、前記長方形の領域内には、長手方向に複数のパターン領域である小領域が配置され、該各小領域間には非パターン領域が配置され、該非パターン領域の幅が1μm〜50μmであることを特徴とする電子線用転写マスク。

請求項（抜粋）：

感応基板に転写すべきパターンを形成したメンブレンと、該メンブレンを複数の長方形の領域に分割する支柱と、を備えた電子線用転写マスクにおいて、前記長方形の領域内には、長手方向に複数のパターン領域である小領域が配置され、該各小領域間には非パターン領域が配置され、該非パターン領域の幅が1μm〜50μmであることを特徴とする電子線用転写マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/16 B ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (7件)：

2H095BA02 ,  2H095BA08 ,  2H095BB36 ,  5F056AA22 ,  5F056AA27 ,  5F056AA29 ,  5F056FA05