特許
J-GLOBAL ID：200903078638610471
微粒子除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114510
公開番号（公開出願番号）：特開平9-298182
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 本発明方法は、半導体製造工程において、微粒子を効率よく除去し、清浄度の高いシリコンウェハおよび半導体製造を提供する。【解決手段】 洗浄液中に少なくとも2つの電極を設け、その電極間に交流電圧を印加し、洗浄液中に存在する微粒子を除去することを特徴とする微粒子除去方法である。
請求項（抜粋）：
洗浄液中に少なくとも2つの電極を設け、該電極間に交流電圧を印加し、洗浄液中に存在する微粒子を除去することを特徴とする微粒子除去方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B03C 5/00
, C02F 1/461
H01L 21/304 341 Z
, B03C 5/00 A
, C02F 1/46 101 B
