特許
J-GLOBAL ID：200903078638804799
液晶表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-062216
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265041
出願日： 1992年03月18日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 補助容量電極(3)上のゲ-ト絶縁膜(4)のピンホール(8)による表示電極(14)とのショートを防止した液晶表示装置の製造方法を実現することを目的とする。【構成】 ゲ-ト絶縁膜(4)にTFT型トランジスタを形成した後、レジスト層(11)で予定の表示電極(14)を除いて被覆し、絶縁膜(12)および透明電極膜(13)を付着し、その後リフトオフにより表示電極(14)を形成し、絶縁膜(12)でピンホール(8)を埋めている。
請求項（抜粋）：
透明な絶縁性基板上にゲート電極および補助容量電極を形成する工程、前記ゲート電極および補助容量電極をゲ-ト絶縁膜で被覆する工程、前記ゲ-ト絶縁膜上にTFT型トランジスタを形成する工程、前記補助容量電極上の予定の表示電極を形成する領域を除き、前記TFT型トランジスタを含みレジスト層で被覆する工程、基板全面に絶縁膜および透明電極膜を付着する工程、前記レジスト層をエッチングし前記透明電極膜からなる表示電極を形成する工程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, H01L 27/12
, H01L 29/784
