特許
J-GLOBAL ID：200903078647207043
セラミックス基板およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-099653
公開番号（公開出願番号）：特開平7-304133
出願日： 1994年05月13日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は、表面の凹部が極めて少なく、表面平滑性のすぐれた半導体産業用に有用とされるセラミックス基板およびその製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のセラミックス基板は、セラミックス基板の表面を合成石英ガラスで被覆し、この表面を表面粗さRaが 0.3μm未満に研磨してなることを特徴とするものであり、この製造方法はセラミックス基板の表面に、けい素化合物の火炎加水分解で発生させたシリカ粒子を堆積し、これを加熱し、ガラス化して合成石英ガラスとしたのち、その表面を表面粗さRaが 0.3μm未満となるように研磨することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
セラミックス基板の表面を合成石英ガラスで被覆し、この表面を表面粗さRaが 0.3μm未満に研磨してなることを特徴とするセラミックス基板。
IPC (3件)：
B32B 18/00
, C04B 41/85
, C04B 41/89
