ポリシングクロスのドレッサー

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-345863
公開番号（公開出願番号）：特開2001-162512
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：

【要約】【課題】半導体ウエハに用いるポリシングマシーンのポリシングクロスの表面処理のドレッサーとして使用される回転ブラシでは使用による摩耗と型崩れによって平坦化、均整化される精度が悪く超高精度の半導体ウエハのポリシング加工を阻害しているものであり、又、ダイヤモンドカップリングホイールをステンレススチールにニッケル等の金属を蒸着していたため金属イオンが発生して、半導体ウエハに悪影響を及ぼしていた。【解決手段】本発明は、ワークをポリシング加工した後のポリシングマシーンのポリシングクロスの表面処理をするドレッサーであって、円板状のドレッサー基板と、ドレッサー基板の外周辺に固定したセラミックでリング状に形成したドレッサー用リングと、ドレッサー用リングの下面に多数取着したダイヤモンド粒とを具備した。

請求項（抜粋）：

ワークを研磨加工した後のポリシングマシーンのポリシングクロスの表面処理をするドレッサーであって、円板状のドレッサー基板と、該ドレッサー基板の外周辺に固定したセラミックでリング状に形成したドレッサー用リングと、該ドレッサー用リングの下面に多数取着したダイヤモンド粒とを具備したこと特徴とするポリシングクロスのドレッサー。

IPC (2件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 A , H01L 21/304 622 M

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058AA19 , 3C058AC01 , 3C058CB01 , 3C058DA17

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