特許
J-GLOBAL ID：200903078648369209
スリット付き光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165918
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003539
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】スリット内を鏡面加工でき、低損失で、クリーンな雰囲気で加工でき、光導波路の汚染、機械的破損などを受けない。【構成】光導波路1は、Si基板2上に形成され、高屈折率nw のコアが低屈折率nc (nw >nc )のクラッド31及び32内に埋め込まれる。光導波路1は、水平に対して角度(π/2-θ)だけ傾けて設置される。炭酸ガスレーザ14のレーザビーム152は光導波路1上に角度θの傾きで照射される。炭酸ガスレーザビームを照射しつつ、光導波路1か、あるいはレーザビーム152をX方向に連続的にスライドさせて、コア4を横断するスリット5を形成する。炭酸ガスレーザ光はSi基板中に吸収されないため、Si基板2にはスリット5は形成されない。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された屈折率nw のコアと、これよりも低い屈折率nc のクラッドとからなる光導波路の上に、所望角度θで炭酸ガスレーザのビームを照射しつつ、光導波路かビームのいずれか又は両方を移動させることにより、光導波路上にコアを横断するスリットを形成するようにしたスリット付き光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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