特許
J-GLOBAL ID：200903078664401406
デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296036
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199484
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 本発明はデバイス製造のためのリソグラフィー方法を開示する。マレイミド含有ポリマーをレジストとして使用した場合の、リソグラフィー工程中のレジストの縮みの問題を改善し、その結果レジスト中のイメージ、ひいてはデバイスパターンに生じる歪みを低減させた。【構成】 照射に感応する材料の領域を基板上に形成する。この照射感応材料にはマレイミドモノマーと少なくとも二つのその他のモノマーの共重合製品であるポリマー成分が含まれる。マレイミドモノマーが共重合しているモノマーの一つには不安定な酸基がぶら下がっており、この不安定な酸基がぶらさがっているモノマーはコポリマーを形成するモノマーの50パーセント未満を占める。この不安定な酸基はマレイミドモノマーにはぶら下がっていない。
請求項（抜粋）：
基板上に照射に感応する材料の領域を形成するステップと、前記の照射に感応する材料は少なくとも3つの異なるモノマーの重合体であり、第一のモノマーは不安定な酸置換基を持ち、第二のモノマーは不安定な酸置換基を持たないマレイミドモノマーであり、第三のモノマーはマレイミドモノマーではなく、また不安定な酸置換基も持たないものであり、前記の不安定な酸置換基を持つモノマーは前記の重合生成物の50モルパーセント未満を占めており、前記のレジスト材料中にエネルギーに露光した、独立した離散領域と、エネルギーに露光していない、隣接し独立した離散領域とを作りだすために、前記の照射に感応する材料の少なくとも一部をエネルギーに露光するステップと、前記の離散領域のそれぞれがあいまって、パターン像を規定しており、前記の照射に感応する材料中のイメージからパターンを現像するステップと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/38 511
, G03F 7/26
, H01L 21/027
H01L 21/30 565
, H01L 21/30 568
