特許
J-GLOBAL ID：200903078668864583
偏光解析方法および薄膜測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-233041
公開番号（公開出願番号）：特開平5-071923
出願日： 1991年09月12日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】【目的】 簡便な偏光解析方法、薄膜測定装置を提供する。【構成】 例えば位相板4、5を介し楕円偏光で試料13を照射し、試料13からの反射光路にビームスプリッタ6を設け、分岐された光路の検光子7、8を介し光電検出器9〜12で少なくとも3つの異なる偏光方向の強度を検出して試料薄膜の屈折率、膜厚を検出する。更には分光反射率方式若しくは白色干渉方式の測定系を併せもつ。
請求項（抜粋）：
ある偏光状態の光束を試料に入射させ該試料からの光束を複数の偏光方向で光検出し、若しくは複数の偏光状態の光束を試料に入射させ該試料からの光束をある偏光方向で光検出し、前記試料の偏光特性を解析する偏光解析方法であって、偏光子、位相板、検光子の内の1つの素子を複数箇、少なくとも3つの異なる偏光状態を形成するように複数の光路内に固設したことを特徴とする偏光解析方法。
IPC (3件)：
G01B 11/06
, G01J 4/04
, G01N 21/21
