特許
J-GLOBAL ID：200903078669134945
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181245
公開番号（公開出願番号）：特開平5-025623
出願日： 1991年07月22日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、簡単な構造で常にターゲットとビームの焦点位置とを一致させておくことができ、かつ、成膜面積を増大できる成膜装置を提供することを目的とする。【構成】 チャンバー2内にターゲット5と基板Aとを互に平行に配設し、外部から導入した光ビームBをターゲット5の表面に照射してスパッタ粒子を放出させ、スパッタ粒子を基板A上に堆積させて薄膜を形成する成膜装置において、光ビームBの光軸上に、光ビームBをターゲット5に向けて反射するミラー3と、光ビームBをターゲット5の表面に集光するレンズ4と、ミラー3、レンズ4およびターゲット5を一体として、光ビームBの光軸方向に進退可能な移動手段11とを備える。
請求項（抜粋）：
チャンバ内にターゲットと基板とを互に平行に配設し、外部から導入した光ビームを当該ターゲットの表面に照射してスパッタ粒子を放出させ、当該スパッタ粒子を前記基板上に堆積させて薄膜を形成する成膜装置において、前記光ビームの光軸上に、当該光ビームを前記ターゲットに向けて反射するミラーと、前記光ビームを前記ターゲットの表面に集光するレンズと、前記ミラー、前記レンズおよび前記ターゲットを一体として、前記光ビームの光軸方向に進退可能な移動手段とを備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
-
特開昭55-094474
-
特公昭61-050144
-
特開昭63-137162
前のページに戻る
