フォトニック結晶の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐野静夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-090749
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272566
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】部位によって光学的特性の異なるフォトニック結晶を簡単に得ることのできるフォトニック結晶の製造方法を提供する。【解決手段】異なるエッチング特性及び屈折率を有する複数の媒質6、7を基3板上に積層して基体21が形成され、基体21の表面に周期的に配列される複数の孔部6a、6bをエッチングや陽極酸化等により形成する。その後、エッチングにより孔部6a、7aの径を拡大する。これにより、断面G-Gでは媒質6と媒質7とが厚み方向に周期的に配列され、断面H-Hでは媒質6と空気とが厚み方向に周期的に配列された擬似的な三次元のフォトニック結晶が得られる。

請求項（抜粋）：

厚み方向に結晶軸方向及びエッチング特性の少なくとも一方が異なる物質から成る基体を形成する第1工程と、前記基体に周期的に配列した複数の孔部を形成する第2工程と、を備えたことを特徴とするフォトニック結晶の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 6/13 , G02B 1/02 , G02B 5/18 , G02B 5/30 , G02B 6/12

FI (6件)：

G02B 1/02 , G02B 5/18 , G02B 5/30 , G02B 6/12 M , G02B 6/12 Z , G02B 6/12 N

Fターム (23件)：

2H047KA03 , 2H047LA18 , 2H047PA01 , 2H047PA24 , 2H047QA01 , 2H049AA01 , 2H049AA02 , 2H049AA31 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA44 , 2H049AA48 , 2H049AA57 , 2H049AA59 , 2H049AA65 , 2H049BA01 , 2H049BA42 , 2H049BB01 , 2H049BB03 , 2H049BB06 , 2H049BB62 , 2H049BC08 , 2H049BC25

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