特許

J-GLOBAL ID：200903078670960387

縦型減圧CVD装置

発明者： 小川 貴史
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287891
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142398
出願日： 1993年11月17日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】縦型減圧CVD装置において、反応ガスの早期反応をなくし均一に混合し、汚染させることなくウェーハ10の面内に一様な膜厚で成膜する。【構成】内管2内に供給するそれぞれの反応ガスを噴出するガスインジェクタ6a,6bの噴出口に対向する羽をもつファン12a,12bを低温部である内管2の下部におよびファンの回転機構であるリングギヤ15とピニオン16を反応管外に設け、マニホールド4aの狭く低温である閉鎖空間内でファン12a,12bを回転させ反応ガスを攪拌する。

請求項（抜粋）：

ウェーハの複数枚を縦に並べ積載するボートと、このボートを載置する保温筒と、この保温筒と該ボートの周囲を囲む内管と、この内管を包むとともに外周囲にヒータを取付ける外管と、前記内管および外管を載置するとともに該内管に反応ガスを導入する第1および第2のガスインジェクタを具備し反応後のガスを該外管から排出させるガス排気口を有するマニホールドと、このマニホールドの開口を塞ぐとともに前記保温筒を取付けるハッチとを備える縦型減圧CVD装置において、前記第1および第2のガスインジェクタのガス噴出口のそれぞれに羽部を対向させて位置するとともに前記ボートの中心として回転する第1および第2のファンを備えることを特徴とする縦型減圧CVD装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/31