特許
J-GLOBAL ID：200903078685436250

ホウ酸エステル化合物の製造方法

発明者：
水谷 雅人

水谷 雅人 について

, 
横山 晶一

横山 晶一 について


出願人/特許権者：
日本油脂株式会社

日本油脂株式会社 について


代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-103885
公開番号（公開出願番号）：特開2006-282567
出願日： 2005年03月31日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】 カールフィッシャー滴定による水分測定値が小さく、モノオール化合物やホウ酸トリメチルなどの未反応物や反応時に生成するメタノールなどの不純物が少ない高純度ホウ酸エステル化合物の製造方法を提供する。【解決手段】 式(1)で示されるモノオール化合物1モルに対し、ホウ酸トリメチルを0.4〜2.0モル用いて、メタノールを吸着するモレキュラシーブの存在下に反応させる工程と、続いて未反応のホウ酸トリメチル、及びホウ酸エステル交換反応に伴って生成するメタノールを除去することにより、ホウ酸エステル化合物を高純度化する工程とを含むことを特徴とするホウ酸エステル化合物の製造方法である。 X-(AO)n-H (1)(Xは1個の水酸基を持つ化合物の脱水素残基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nはAOの平均付加モル数であり、n=1〜600である)。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
式(1)で示されるモノオール化合物1モルに対し、ホウ酸トリメチルを0.4〜2.0モル用いて、メタノールを吸着するモレキュラシーブの存在下に反応させる工程と、続いて未反応のホウ酸トリメチル、及びホウ酸エステル交換反応に伴って生成するメタノールを除去することにより、ホウ酸エステル化合物を高純度化する工程とを含むことを特徴とするホウ酸エステル化合物の製造方法。 X-(AO)n-H (1) (Xは1個の水酸基を持つ化合物の脱水素残基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nはAOの平均付加モル数であり、n=1〜600である)
IPC (1件)：
C07F 5/02
FI (1件)：
C07F5/02 C
Fターム (10件)：
4H039CA93 ,  4H039CL25 ,  4H048AA02 ,  4H048AD11 ,  4H048BA71 ,  4H048BC10 ,  4H048BC31 ,  4H048BC50 ,  4H048BC51 ,  4H048VA75
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭47-29323号公報
  • 国際公開第03/31453号パンフレット
審査官引用 (2件)

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