特許

J-GLOBAL ID：200903078695132900

区画培養基板及びそれを用いたDNAチップ

発明者： 川村 浩一 ,  山崎 純明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-195425
公開番号（公開出願番号）：特開2003-009860
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】 露光、加熱により高感度、高解像度で、細胞の非吸着領域に好適な高親水性の領域が容易に形成でき、しかも、赤外線レーザ等を操作することによりデジタルデータに基づいたパターン形成が可能な、応用範囲の広い区画培養基板、及び、微細なパターンを容易に形成しうる優れたDNAチップを提供する。【解決手段】 支持体上に、熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有し、且つ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるグラフト層を備え、該グラフト層の所定領域に、加熱、酸の供給または輻射線の照射を行って、グラフト層表面の親疎水性を変化させ、グラフト層表面を細胞接着性領域と細胞非接着性領域に区画してなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

支持体上に、熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有し、且つ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるグラフト層を備え、該グラフト層の所定領域に、加熱、酸の供給または輻射線の照射を行って、グラフト層表面の親疎水性を変化させ、グラフト層表面を細胞接着性領域と細胞非接着性領域に区画してなることを特徴とする区画培養基板。

IPC (5件)：

C12N 15/09 ,  C12M 3/00 ,  C12N 5/06 ,  G01N 33/53 ,  G01N 37/00 102

FI (5件)：

C12M 3/00 ,  G01N 33/53 M ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 F ,  C12N 5/00 E

Fターム (16件)：

4B024AA11 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024HA11 ,  4B029AA01 ,  4B029AA21 ,  4B029AA23 ,  4B029BB11 ,  4B029BB20 ,  4B029CC02 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065BC50 ,  4B065CA44 ,  4B065CA46