特許
J-GLOBAL ID：200903078701966206
アライメント方法及びキーパターン検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-087700
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264622
出願日： 1995年03月22日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハが偏っていたり、不定形のウェーハ又は割れたウェーハ等であっても光学手段の直下に容易にウェーハを位置付け、ストリートの角度ずれをモニタを見ながら簡単に且つ高精度に調整出来るようにしたアライメント方法及びキーパターン検出方法を提供する。【構成】 ストリートによって区画された所定のパターンが形成された被加工物をチャックテーブルに保持するステップと、前記被加工物の形状、大きさ、位置を検出してそのデータをCPUに記憶させるステップと、検出データに基づいて被加工物を光学手段の直下に位置付けるステップと、前記被加工物が存在する領域内で光学手段によって撮像された被加工物のストリートの角度ずれを調整するステップとを少なくとも含む。前記アライメントの後、光学手段によって被加工物の表面を走査し、キーパターンとして最適なパターンを検出する。
請求項（抜粋）：
ストリートによって区画された所定のパターンが形成された被加工物をチャックテーブルに保持するステップと、前記被加工物の形状、大きさ、位置を検出し、検出データを記憶するステップと、前記検出データに基づいて、前記被加工物を光学手段の直下に位置付けるステップと、前記被加工物が存在する領域内で前記光学手段によって撮像された被加工物のストリートの角度ずれを調整するステップと、を少なくとも含むアライメント方法。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, B23Q 15/22
, B23Q 17/24
, H01L 21/301
H01L 21/68 F
, B23Q 15/22
, B23Q 17/24 C
, H01L 21/78 C
