特許
J-GLOBAL ID：200903078704713147
結像特性補正方法及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021026
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209031
出願日： 1997年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 高スループットで照明領域の切り換えを行い、マスク及び投影光学系の照明光吸収による結像性能の変動を極力抑える。【解決手段】 図8(A)のようにマスクR上の計測マーク90aの投影光学系を介した投影像の光電検出が行われる間に、図8(B)のようにマーク90aの位置と次のマーク90bの位置とを含む制限された領域が照明されるように照明領域103が設定される。このため、次のマーク90bの投影像の検出の時点では、照明領域はその検出対象であるマーク90bを含む領域に設定されているので直ちに検出を開始することができ、照明領域の切り換えがスループットに悪影響を与えることがない。また、照明領域は最大でも検出中のマーク位置と次のマーク位置とを含む制限された領域(例えば図8(F)の照明領域108)に制限される。このため、マスク及び投影光学系の照明光吸収による結像性能の変動を極力抑えることができる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンの像を基板上に投影する投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正方法であって;前記マスク上に形成された1つのマークパターンを含む領域を照明光により照明して当該マークパターンの前記投影光学系を介した投影像を光電検出するとともに、該投影像の検出中に、その検出中のマークパターン位置と次のマークパターン位置とを含む制限された領域が照明されるように照明領域を設定する第1工程と;前記第1工程を少なくとも1回経た後に、前記第1工程で検出された投影像のデータから前記投影光学系の結像特性を計算する第2工程と;前記第2工程における計算結果に基づいて前記投影光学系の結像特性を補正する第3工程とを含む結像特性補正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 516 Z
, G03F 7/207 H
