特許

J-GLOBAL ID：200903078714862043

真空吸着盤

発明者： 森岡 裕之
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-118946
公開番号（公開出願番号）：特開平11-309638
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】吸引孔3の目詰まりが殆どない長寿命の真空吸着盤1を提供する。【解決手段】被加工物Wを吸引固定するための吸引孔3を備えた吸着面9をセラミックスにより形成するとともに、上記吸着面9には被吸着物Wの外形より僅かに小さくかつその外形に沿った環状溝10を凹設し、該環状溝10に弾性体からなる枠状のシール部材11を前記吸着面9より頭出させた状態で配設して真空吸着盤1を構成する。

請求項（抜粋）：

被加工物を吸引固定するための吸引孔を備えた吸着面に、上記被加工物の外形より小さくかつその外形に沿った環状溝を凹設するとともに、該環状溝に弾性体からなる枠状のシール部材を前記吸着面より頭出された状態で配設したことを特徴とする真空吸着盤。

IPC (3件)：

B23Q 3/08 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

B23Q 3/08 A ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/68 P

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭56-153741
  
• 真空チヤツク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-062555   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭56-153741
  
• 特開昭56-153741