特許

J-GLOBAL ID：200903078745380691

膜形成方法

発明者： 奥山 智幸
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-268614
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107216
出願日： 2002年09月13日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】アセン系化合物を含有する膜を液相プロセスで形成できるようにした膜形成方法を提供する。【解決手段】アセン系化合物に、光および/または熱を与えて環化付加反応させることによって、溶剤に可溶な環化体を生成する工程と、前記環化体と、該環化体を溶解し得る溶剤を含む液体層を基材上に設ける工程と、該液体層に対して光および/または熱を与えてアセン系化合物からなる固体を生成する工程を有することを特徴とする膜形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される第1の化合物および下記一般式(II)で表される第2の化合物に、光および/または熱を与えて、前記第1の化合物と前記第2の化合物とが環化付加してなる環化体を生成する工程と、 前記環化体と、該環化体を溶解し得る溶剤を含む液体層を基材上に設ける工程と、 該液体層に対して光および/または熱を与えて前記第1の化合物および前記第2の化合物を含む固体を生成する工程を有することを特徴とする膜形成方法。

IPC (4件)：

C07C41/30 ,  C07C43/188 ,  C07D493/04 ,  H01L51/00

FI (4件)：

C07C41/30 ,  C07C43/188 ,  C07D493/04 101A ,  H01L29/28

Fターム (13件)：

4C071AA03 ,  4C071AA08 ,  4C071BB01 ,  4C071BB08 ,  4C071CC14 ,  4C071EE04 ,  4C071FF14 ,  4C071GG01 ,  4C071JJ01 ,  4C071LL03 ,  4H006AA02 ,  4H006AC21 ,  4H006BA95