特許

J-GLOBAL ID：200903078760978480

化粧料

発明者： 瀧口 整 ,  宮永 清一 ,  織田 卓
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213858
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039845
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】 スキンケア効果又はヘアケア効果と感触との両立を高い水準で達成する化粧料の提供。【解決手段】 次のポリエーテル(1)を含有し、皮膚又は毛髪表面に皮膜を形成する化粧料。-[X]m-[Y] n- (1)〔Xは式(X)、Yは式(Y1)、(Y2)又は(Y3)で表される基を、m及びnはm/(m+n)=0.2〜1及びm+n≧10を満足する数を示す〕【化1】(R1-3、R13-15、R17及びR18はH、Me又はEt、Gは2価の基、R4-8及びR16はMe等、R19及びR20はH、COOH等、a及びeは1又は2、bは0又は1、cは平均値として1〜500又は単一の数として1〜20の整数、fは2〜6)

請求項（抜粋）：

次の一般式(1)で表されるポリエーテルを含有し、皮膚又は毛髪表面にて皮膜を形成する化粧料。-[X]m-[Y]n- (1)〔式中、m個のXは同一又は異なって、一般式(X)で表される基を示し、【化1】(R1 、R2 及びR3 は同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。Gは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基又は炭素数6〜30のアリーレン基を示す。R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 の個々の基は同一でも異なってもよく、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基又はケイ素原子数1〜200のシロキシ基若しくはポリシロキシ基を示す。aは1又は2の数を示し、bは0又は1の数を示し、cは平均値として1〜500の数を示すか、又は単一の数として1〜20の整数を示す。)n個のYは同一又は異なって、一般式(Y1)、(Y2)又は(Y3)で表される基を示し、【化2】(R13、R14、R15、R17及びR18は同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R16は水素原子又はフッ素原子が置換していてもよい炭素数1〜32の炭化水素基を示す。R19及びR20は同一又は異なって、水素原子、カルボキシル基、カルボキシメチル基又はそれらの塩を示す。eは1又は2の数を示す。fは2〜6の数を示す。)m及びnはm/(m+n)=0.2〜1及びm+n≧10を満足する数を示す。〕

IPC (3件)：

A61K 7/40 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/48

FI (3件)：

A61K 7/40 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/48

Fターム (31件)：

4C083AA122 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC612 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC892 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD132 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD452 ,  4C083AD492 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC05 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE12 ,  4C083EE28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 頭髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-144610   出願人：株式会社コーセー
• 低刺激性化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-144612   出願人：株式会社コーセー
• 乳化化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-136118   出願人：株式会社コーセー
• 特開昭57-149290