特許

J-GLOBAL ID：200903078769593351

オフセット印刷版用基板及びそれを用いたオフセット印刷版の製造方法

発明者： 谷 善夫 ,  小林 孝史
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-282495
公開番号（公開出願番号）：特開平9-099662
出願日： 1995年10月04日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：

【要約】【課題】 画像層(画像部)と基板との接着性に優れ、非画像部の湿し水の保水性に優れ且つ汚れ難く、さらに得られる印刷画像の鮮鋭さが向上したインクジェット法、感熱転写法あるいは放電転写法を利用するダイレクト製版より作成されるオフセット印刷版を作成することができるオフセット印刷版基板を提供する。【解決手段】 支持体、及びその上に設けられた画像受容層からなるオフセット印刷版用基板において、該画像受容層が、空隙率30〜80%を有する三次元網目構造の層であり、そして該三次元網目構造が、平均1次粒子径が100nm以下の無機微粒子と水溶性樹脂とから形成されていることを特徴とするオフセット印刷版用基板、及びこの基板を用いてダイレクト製版によりオフセット印刷版を製造する方法。

請求項（抜粋）：

支持体、及びその上に設けられた画像受容層からなるオフセット印刷版用基板において、該画像受容層が、空隙率30〜80%を有する三次元網目構造の層であり、そして該三次元網目構造が、平均1次粒子径が100nm以下の無機微粒子と水溶性樹脂とから形成されていることを特徴とするオフセット印刷版用基板。

IPC (5件)：

B41N 1/14 ,  B41C 1/10 ,  B41M 5/00 ,  B41M 5/26 ,  B41N 1/08

FI (5件)：

B41N 1/14 ,  B41C 1/10 ,  B41M 5/00 B ,  B41N 1/08 ,  B41M 5/26 A