特許
J-GLOBAL ID：200903078774693844
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-289746
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129095
出願日： 1991年11月06日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は大口径領域に均一で安定なプラズマを発生させることにより、大口径基板を安定にかつ均一に処理するプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】マイクロ波を処理室に供給する空洞共振器を分配用共振器とマイクロ波放射用共振器に分け、空洞共振器の寸法を大きくせず、長さだけを大きくすることにより安定なマイクロ波放射とプラズマ発生領域の拡大を両立した。【効果】本発明により大口径基板の処理が安定で均一にでき、半導体素子、液晶表示素子製造の生産性向上が図れると共に、半導体素子、液晶表示素子製造の歩留まり向上が図れる。
請求項（抜粋）：
空洞共振器に設けたスロットよりマイクロ波を放射し、プラズマを発生させるプラズマ処理方法において空洞共振器をマイクロ波分配用共振器とマイクロ波放射用共振器に分けた構成とすることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/31
