特許
J-GLOBAL ID：200903078775302784
磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113142
公開番号（公開出願番号）：特開平10-302254
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 非磁性支持体上に形成された磁性薄膜上に、プラズマCVD法によって保護膜を成膜するに際して、円筒キャンを金属材料で構成した場合にも異常放電やプラズマによる非磁性支持体のシワが防止され、品質の高い磁気記録媒体が製造されるようにする。【解決手段】 磁性薄膜の幅をM、反応管の幅をWとしたときに、W>Mなる条件を満たすような反応管8を用いるとともに、冷却キャン7の周面のうち、少なくとも非磁性支持体からはみ出る両端部7a,7bに絶縁層12を形成する。
請求項（抜粋）：
長尺状の非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、この非磁性支持体を、少なくとも表面が金属よりなる冷却キャンに沿って連続走行させながら、磁性薄膜上にプラズマCVD法によって保護膜を成膜するに際して、磁性薄膜の幅をM、原料ガスをプラズマによって化学反応させる反応管の幅をWとしたときに、W>Mなる条件を満たすとともに、冷却キャンの周面のうち、少なくとも非磁性支持体からはみ出る両端部に絶縁層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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