特許

J-GLOBAL ID：200903078791745335

光学素子の製造方法

発明者： 河内山 彰 ,  木島 公一朗
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267812
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080242
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 光ディスクの記録層に照射する光学レンズの製造方法を提供する。【解決手段】 光学材料よりなる基板1の一方に面にドライエッチングにより光収束手段を形成する。エッチングガスとして、酸素ガス、Arガス、Heガスから選ばれる少なくとも一種とフッ化炭素ガスとの混合ガスを用いる。例えば、光学材料よりなる基板上に光学レンズの形状に対応するマスク材料を形成した後、熱処理を行うことによりマスク材料の形状を表面積が小さくなるように変形させ、ドライエッチングによりこのマスク形状に応じた形状の光収束手段を基板に転写形成することにより、小型の半球レンズ4が形成される。

請求項（抜粋）：

光学材料よりなる基板の一方に面にドライエッチングにより光収束手段を形成する光学素子の製造方法において、エッチングガスとして、酸素ガス、Arガス、Heガスから選ばれる少なくとも一種とフッ化炭素ガスとの混合ガスを用いることを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

C03C 15/00 ,  G02B 3/00 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22

FI (5件)：

C03C 15/00 A ,  C03C 15/00 D ,  G02B 3/00 A ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22

Fターム (12件)：

4G059AA11 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059BB01 ,  4G059BB14 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119JA44 ,  5D119JA64 ,  5D119NA05