特許

J-GLOBAL ID：200903078793672980

ポリ塩素化ビフェニルの脱塩素化方法及びその装置

発明者： 多田 博光 ,  渡邉 齊 ,  渡海 和俊
出願人/特許権者： 原子燃料工業株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-298843
公開番号（公開出願番号）：特開平9-110735
出願日： 1995年10月24日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 被処理液中に含まれる微濃度のPCBを効率よく、更に大幅に低減可能なPCBの脱塩素化方法及び装置を得る。【解決手段】 ポリ塩素化ビフェニル(PCB)の塩素基と反応する反応基を持つ固体粒状の脱塩素物質を固定層フィルタ状に設け、大きな接触面積で脱塩素物質に被処理液を接触させる。

請求項（抜粋）：

ポリ塩素化ビフェニルを含む被処理液の流路中に、ポリ塩素化ビフェニルの塩素基と反応する反応基を持つ固体粒状の脱塩素物質を固定層フィルタ状に設けて、ポリ塩素化ビフェニルと固体状の脱塩素物質とを接触させることを特徴とするポリ塩素化ビフェニルの脱塩素化方法。

IPC (3件)：

C07C 15/14 ,  A62D 3/00 ZAB ,  C07C 1/26

FI (3件)：

C07C 15/14 ,  A62D 3/00 ZAB ,  C07C 1/26