特許
J-GLOBAL ID：200903078836891664

真空装置の動作方法

発明者：
岡 大輔

岡 大輔 について

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東 正久

東 正久 について

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生地 望

生地 望 について

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田口 竜大

田口 竜大 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  鈴木 壯兵衞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-131118
公開番号（公開出願番号）：特開2009-280835
出願日： 2008年05月19日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】ヒートマスの大きなヒータを有する大型の真空装置のヒータの昇温時間、降温時間を短縮して、メンテナンス前後の非生産時間を短縮し、生産効率を向上させることが可能な真空装置の動作方法を提供する。【解決手段】被処理体22を載置していない複数の搬送部11〜1nを順次加熱する。主加熱部1a,1bよりも高温に加熱された各搬送部11〜1nは、処理室1内に順次搬送される。搬送部11〜1nが、順次、主加熱部1a,1bに熱量を順次与えるので、熱エネルギーの移動により、主加熱部1a,1bにおける加熱が促進され、主加熱部1a,1bの設定温度までの昇温時間を短縮することができる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
室温状態から主加熱部の昇温を開始し、前記主加熱部の温度よりも高温に加熱された第1の搬送部を前記主加熱部が配置された処理室内に搬送し、前記第1の搬送部の熱を前記主加熱部に移動した後、前記処理室の外部に搬出し、前記主加熱部の昇温速度を加速するステップと、 前記主加熱部が前記設定温度に到達後、被処理体を第2の搬送部に載置するステップと、 前記第2の搬送部を前記処理室内に搬送し、前記被処理体を前記設定温度において処理するステップ とを含むことを特徴とする真空装置の動作方法。
IPC (7件)：
C23C 16/46 ,  C23C 16/54 ,  C23C 16/44 ,  C23C 14/56 ,  C23C 14/50 ,  C23C 14/24 ,  H01L 21/677
FI (10件)：
C23C16/46 ,  C23C16/54 ,  C23C16/44 F ,  C23C14/56 D ,  C23C14/50 E ,  C23C14/50 K ,  C23C14/24 V ,  C23C14/56 G ,  C23C14/56 H ,  H01L21/68 A
Fターム (35件)：
4K029AA21 ,  4K029DA08 ,  4K029DB12 ,  4K029KA01 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030GA13 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030JA12 ,  4K030KA23 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA51 ,  5F031GA53 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA57 ,  5F031HA58 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031MA03 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA30 ,  5F031MA31 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031NA09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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