特許
J-GLOBAL ID：200903078839486795
分離膜の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-130722
公開番号（公開出願番号）：特開平5-317661
出願日： 1992年05月22日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：
【要約】【構成】製膜した分離膜をその使用形態であるモジュールまたはカートリッジに組み立てた後、モジュールの内部を減圧し、処理ガスを流入させ、該モジュールの外部から電磁波を照射することにより分離膜をプラズマ処理することを特徴とする分離膜の処理方法。。【効果】大がかりな減圧容器が不要となり、生産性も高い。有毒なガスが発生する場合であっても減圧容器を開ける必要がないため、大がかりな処理装置が不要である。また分離膜の両面をそれぞれ異なる程度や異なる種類の処理が可能であり、さらに分離膜が中空糸状の場合、その内表面を処理することが容易であり、外表面を処理する場合でも内表面処理に劣らない性能の向上が得られる。
請求項（抜粋）：
分離膜がハウジング内に充填されたモジュールの分離膜で隔てられた空間の少なくとも1つを減圧された気体で満たし、該モジュールの外部から電磁波を照射してプラズマ処理することを特徴とする分離膜の処理方法。
IPC (2件)：
B01D 67/00 500
, B01D 71/26
