特許

J-GLOBAL ID：200903078848789350

光輝性に優れたAl-Mg-Si系鍛造品及びその製造方法

発明者： 河合 秀信 ,  柚木 裕嗣 ,  神尾 一
出願人/特許権者： 日本軽金属株式会社
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-215397
公開番号（公開出願番号）：特開2000-054054
出願日： 1998年07月30日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【目的】 アルマイト処理皮膜を形成した後でも高い光沢度を示すAl-Mg-Si系鍛造品を提供する。【構成】 このAl-Mg-Si系鍛造品は、Si:0.40〜0.55%,Mg:0.45〜0.85%,Cu:0.10〜0.20%,Mn:0.03〜0.07%,Ti:0.01〜0.05%,B:0.0001〜0.01%,必要に応じCr:0.01〜0.05%を含み、Fe含有量が0.17重量%以下に規制されている。また、鍛造後の組識において晶出物の粒子数が0.06個/μm2 以下,晶出物の粒子平均面積が1.50μm2 /個以下に規制され、好ましくはHV≧88の硬さをもっている。冷却速度5°C/秒以上で鋳造し、560〜580°C×2〜6時間の均質化処理を施した後、200°C/時以上の冷却速度で冷却し、350〜560°Cで鍛造することにより製造される。鍛造後、T5又はT6処理により、必要な機械特性が付与される。

請求項（抜粋）：

Si:0.40〜0.55重量%,Mg:0.45〜0.85重量%,Cu:0.10〜0.20重量%,Mn:0.03〜0.07重量%,Ti:0.01〜0.05重量%,B:0.0001〜0.01重量%,残部が実質的にAlで、Fe含有量が0.17重量%以下に規制された組成をもち、鍛造後の組識において晶出物の粒子数が0.06個/μm2 以下,晶出物の粒子平均面積が1.50μm2 /個以下に規制されている光輝性に優れたAl-Mg-Si系鍛造品。

IPC (11件)：

C22C 21/06 ,  C22F 1/05 ,  C22F 1/00 601 ,  C22F 1/00 630 ,  C22F 1/00 681 ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 691 ,  C22F 1/00 ,  C22F 1/00 692 ,  C22F 1/00 694

FI (11件)：

C22C 21/06 ,  C22F 1/05 ,  C22F 1/00 601 ,  C22F 1/00 630 K ,  C22F 1/00 681 ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 691 B ,  C22F 1/00 691 C ,  C22F 1/00 692 A ,  C22F 1/00 694 B